铌钯

铌钯是一种广泛应用于磁性材料、光学膜、电子器件等领域的重要工业材料。以下是关于铌靶的详细介绍：

一、基本信息

铌钯材质：高纯度Niobium

规格范围：圆形或方形，厚度1-30mm，直径≤400mm

表面处理：镜面、精磨、喷砂等

二、详细的参数

纯度：铌钯通常采用高纯度Nb（99%~99.99%）作为材料，确保其在各种工业应用中的稳定性和可靠性。

密度：铌的密度约为8.57g/cm³，因此铌钯具有较高的重量和体积比，便于控制制备过程中的温度和空气环境等因素。

弹性模量：针对不同的应用领域，铌钯具有不同弹性模量，通常在105~216GPa之间。

抗拉强度：铌钯的抗拉强度通常在220~360MPa之间，可以满足大多数工业领域的应用需求。

加工性能：铌钯的加工性能较好，可以通过精密机器加工、镜面抛光等方法获得高质量、稳定性能的铌靶材料。

三、物理特性参数

密度：8.57 g/cm³

熔点：2477℃

热膨胀系数：7.1×10-6 /K

热导率：54.1 W/(m·K)

电阻率：13.1×10-8 Ω·m

四、功能优势特点

耐腐蚀性：铌钯具有良好耐腐蚀性能，可以承受酸碱等化学物质的侵蚀，保证了其长期使用的寿命和稳定性。

高熔点：铌的熔点非常高达2477℃，铌靶在高温环境下仍能保持稳定的性能，使得它具有广泛的应用领域。

高强度：虽然铌的密度较高，但其强度也相对较高，可以满足许多领域的应用需求。

高纯度：铌钯通常采用高纯度Nb（99%~99.99%）作为材料，确保其在工业应用中的稳定性和可靠性。

良好的化学稳定性：铌靶具有良好的化学稳定性，不会和其他材料发生反应，并且在长期使用过程中也不会出现晶界扩散等问题。

五、应用及其他注意事项

应用：铌钯广泛应用于磁性材料、光学膜、电子器件等领域，如磁随机存储器、磁存储传感器、平面显示器等。

注意事项：在使用和制备铌靶的过程中，需要注意避免与其他金属或元素等发生反应，以及注意控制好制备过程的温度和环境条件等细节问题。