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行业知识

2024-11-30

钛靶的表面特性及其与溅射性能的相关性

  众所周知,钛溅射靶的早期寿命性能受因机械加工而在溅射表面产生的变形层以及表面污染程度的影响

与其他研究人员先前的说法相反,已经确定去除整个变形层并不是改善钛溅射靶早期寿命性能的必要条件。

在用于商用溅射工具之前,使用简单的空气冷却磁控溅射室对靶表面进行少于 20 分钟的溅射处理,

可以改善钛溅射靶的早期寿命性能。

   结果表明,这种溅射处理通过从表面去除一小部分变形层来降低表面污染程度,同时将剩余的变形层转变为类似于块体钛的软层。

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溅射沉积是一种广泛使用的技术,用于在半导体晶圆上沉积薄金属层(扩散阻挡层、粘附层或种子层)。

溅射的材料源称为“溅射靶”。溅射靶可由高纯度金属(纯度为 99.9% 至 99.9999% 的铝、铜、钛、钽、钨等)

或合金(铝-铜、铝-铜-硅、镍-钒等)制成,并由背板(铝合金、铜等合金)支撑以用于特定用途。

溅射靶的制造包括铸造(或粉末加工)、挤压、热压或轧制、冷压或轧制、热处理(再结晶)和平整。

成品靶的表面经过机械加工和抛光。精密加工使用计算机数控机床,通常根据材料类型使用各种抛光技术。

宝鸡鑫达共创在交付给客户之前,这些成品溅射靶材要经过适当的清洁方法去除表面污染物,。

在选定的溶剂浴中对溅射靶材进行超声波清洗通常是主要的清洁方法。。

通过使用溅射处理改变溅射靶表面,可以缩短钛靶的老化时间 。由于对钛靶进行了溅射处理,

钛膜的薄层电阻 (Rs 不均匀性) 降低,Rs 不均匀性早期趋于稳定。随后,该方法已根据应用情况应用于

各种类型的商用溅射靶和工艺。本文我们报告了溅射处理对钛溅射靶的影响,

涉及表面形貌、冷加工、硬度和其他特性(如污染和氧化层)的变化。

通过比较加工后的普通靶和溅射处理的钛靶的结果,成功地解释了处理后的溅射靶早期寿命性能改善的原因。

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